●
問合せ
●
明治大学 研究推進部 生田研究知財事務室
TEL: 044-934-7639 E-mail: tlo-ikuta@mics.meiji.ac.jp
2014年6月改訂結晶性セラミッ
ス膜
ダイレ
トパタヸニン
渡邉
友亮
理工学部
応用化学科
無機材料化学研究室
School of Science and Technology, Department of Applied Chemistry
Tomoaki Watanabe
研究目的
本テヸマ 目的 , 々 提唱し い 溶液プロセスを用いた高機能セラミッ スパ
タヸン 直接作製,そ 反応機構解明ヷデバイスへ 応用 あ 。電磁気セラミッ ス,
ナノレベル 制御さ たセラミッ ス多層膜 びそ パタヸン作製 , 端材料
し セラミッ ス合 こ ,高価 原材料や装置,あ い 高エネル ヸを
必要 し,エネル ヸ効率 悪い高真空系や極限条件 プロセス 必要 あ 考え
た。こ 対し 々 基板 溶液 界面反応を熱,電気, 化学
励起す 低温 セラミッ ス 合 こ ,ソフト溶液プロセス いう
概念を提出した。現 こ ,結晶性セラミッ ス膜 パタヸンを水溶液中 直接,
常温常 作製した いう報告 殆 見あた い。本研究 ,溶液プロセスを使っ
たセラミッ ダイレ トパタヸニン 技術 体系化を行い,そ 応用技術を確立す
こ を目的 す 。
研究内容
本 研 究 テ ヸ マ 々 独 自 開 発 し た レ ヸ ザ ヸ パ タ ヸ ニ ン 装 置 を 行 っ 研 究 を
行っ い 。常温常 環境下 結晶性 セラミッ ス膜を得 た 何 励起源
必要 た ,ここ そ 界面励起エネル ヸ し アル ンレヸザヸを用いた。
具体的 局所的 照射したレヸザヸ を ンピュヸタ 制御さ た ルバノミラヸを
使っ ス ャンす こ 微少セラミッ スパタヸン 直接作製を試 た。現
結果 し 線幅数十ミ ロン チタン酸バリウム びチタン酸ストロンチウム 直
接パタヸン作製 功し い 。本装置 ラマン散乱用 分 器 備え あ ,レヸ
ザヸ照射 膜 同時 反応中間体 発生す ラマン を え こ 。
そ を活 し 溶液中 反応機構解析 行っ い 。
用 途 半導体,マイ ロバッテリヸ,基板配線,マイ ロメッ
関係論文
①Tomoaki WATANABE and Masahiro YOSHIMURA: Direct patterning of crystallized BaTiO3